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XAU-4C光谱分析仪

性能优势:1.微小样品检测:最小测量面积0.03mm²(加长测量时间可小至0.01mm²)2.变焦装置算法:可改变测量距离测量凹凸异形样品,变焦距离可达0-30mm3.独创的EFP算法:Li(3)-U(92)元素的涂镀层,多层多元 素,甚至有同种元素在不同层也可精准测量。   4.先进的解谱技术:减少能量相近元素的干扰,降低检出限。   5.高性能探测器:S

  • 测量面积:最小0.03mm²
  • 镀层分析:23层镀层24种元素
  • 仪器特点:RoHS卤素有害元素检测
  • 仪器优势:同元素不同层分析
  • 联系方式:400-850-1617
  • 服务宗旨:专注研发,专业生产,专精服务

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仪器简介:

XAU-4C是一款设计结构紧凑,模块精密化程度极高的光谱分析仪,采用了下照式C型腔体设计,是一款一机多用型光谱仪。

应用核心EFP算法和微光聚集技术,既保留了专用测厚仪检测微小样品和凹槽的性能,又可满足微区RoHS检测及成分分析。

被广泛用于各类产品的质量管控、来料检验和对生产工艺控制的测量使用。


产品优势:

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技术参数:

1. 成分分析范围:铝(Al)- 铀(U)

2. 成分最低检出限:1ppm

3. 涂镀层分析范围:锂(Li)- 铀(U)

4. 涂镀层最低检出限:0.005μm

5. 最小测量直径□0.1*0.3mm(最小测量面积0.03mm²)

    标配:最小测量直径0.3mm(最小测量面积0.07mm²)

6. 对焦距离:0-30mm

7. 样品腔尺寸:500mm*360mm*215mm

8. 仪器尺寸:550mm*480mm*470mm

9. 仪器重量:45KG

10. XY轴工作台移动范围:50mm*50mm

11. XY轴工作台最大承重:5KG


应用领域:

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多元迭代EFP核心算法(专利号:2017SR567637)

专业的研发团队在Alpha和Fp法的基础上,计算样品中每个元素的一次荧光、二次荧光、靶材荧光、吸收增强效应、散射背景等多元优化迭代开发出EFP核心算法,结合先进的光路转换技术、变焦结构设计及稳定的多道脉冲分析采集系统,只需要少量的标样来校正仪器因子,可测试重复镀层、非金属、轻金属、多层多元素以及有机物层的厚度及成分含量。

单涂镀层应用:如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂镀层应用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金镀层应用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分应用:如NiP/Fe,通过EFP算法,在计算镍磷镀层厚度的同时,还可精准分析出镍磷含量比例。

重复镀层应用:不同层有相同元素,也可精准测量和分析。

如钕铁硼磁铁上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,第一层Ni和第三层Ni的厚度均可测量。

有害元素检测:RoHS检测,可满足铅(Pb)、汞(Hg)、镉(Cd)、六价铬(Cr VI)等有害元素的成分检测及含量分析


选择一六仪器的四大理由:

1.一机多用,无损检测(涂镀层检测-环保RoHS-成分分析)

2.最小测量面积0.002mm²

3.可检测凹槽0-30mm的异形件

4.轻元素,重复镀层,同种元素不同层亦可检测


配置清单:

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